Forskere opnår smeltet silica med høj skadetærskel ved at kæmme kemisk ætsning og laserpolering

Laserskader i smeltet silica, især ultraviolet laserskader, er stadig et nøgleproblem, der begrænser udviklingen af ​​højeffektlasersystemer. Den traditionelle forarbejdningsmetode for smeltet silica går gennem processerne med slibning og kemisk mekanisk polering (CMP). Denne metode er tidskrævende for at opnå en ultraglat overflade, og er let at forårsage overflade- og undergrundsdefekter, hvilket resulterer i en betydelig reduktion i overfladeskadetærsklen for den smeltede silica.

For nylig, et forskerhold fra Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics ved det kinesiske videnskabsakademi kombinerede kemisk ætsning og CO ₂ laserpolering for at behandle det formalede smeltede silica. Kemisk ætsning blev brugt til at åbne de underjordiske defekter af det formalede smeltede silica. Efterfølgende CO ₂ laserpolering blev påført for at reducere overfladens ruhed.

Denne kombinerede proces kan ikke kun effektivt opnå en superglat overflade med en lav overfladeruhed, men kan også forbedre skadesbestandigheden af ​​smeltet silica. Dette værk blev offentliggjort i Optik bogstaver .

Gennem skadesmorfologi og en defektanalyse, den kombinerede proces viste sig at undgå introduktionen af ​​overflade- og undergrundsdefekter, herunder destruktive defekter, kemiske strukturfejl, og fotoaktive mentale urenheder, og opnå smeltet silica med lavere overfladedefektdensitet, derved opnås bedre skadesbestandighed.