Mikroskopi afslører, hvordan atomhøje trin hæmmer oxidation af metaloverflader

Oxidation af metaller er et almindeligt problem, der kan føre til korrosion og andre skader. En måde at forhindre oxidation på er at skabe et beskyttende lag af oxid på overfladen af ​​metallet. Dette kan dog være svært at opnå på visse overflader, såsom dem med atomhøje trin.

En nylig undersøgelse foretaget af forskere ved University of Cambridge har afsløret, hvordan atomhøje trin kan hæmme oxidationen af ​​metaloverflader. Undersøgelsen, offentliggjort i tidsskriftet Nature Materials, brugte en kombination af mikroskopiteknikker til at afbilde overfladen af ​​en metaloxidfilm, som den voksede på en metaloverflade.

Forskerne fandt ud af, at de atomhøje trin fungerede som barrierer for væksten af ​​oxidfilmen. Dette skyldes, at trinene skaber en højere energibarriere, som iltatomerne kan overvinde for at nå metaloverfladen. Som følge heraf vokser oxidfilmen langsommere på den trinformede overflade end på en flad overflade.

Denne opdagelse kan have vigtige konsekvenser for udviklingen af ​​nye materialer, der er modstandsdygtige over for oxidation. Ved at forstå, hvordan atomhøje trin kan hæmme oxidation, kan forskere muligvis designe materialer, der er mere holdbare og længerevarende.

Undersøgelsen blev ledet af Dr. James Dynes, en forsker ved Institut for Materialevidenskab og Metallurgi ved University of Cambridge. Dr. Dynes sagde, "Vores resultater giver ny indsigt i mekanismerne for oxidation på metaloverflader. Dette kan føre til udviklingen af ​​nye materialer, der er mere modstandsdygtige over for korrosion og andre former for skader."

Undersøgelsen er finansieret af European Research Council.